JB/T 8946

📋 Scope / 适用范围 ai_extracted

本标准规定了真空离子镀膜设备的技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于压力在10-4~10-3 Pa 范围的真空离子镀膜设备（以下简称设备），具体包括如下类型： 多弧离子镀、电弧放电型真空离子镀、空心阴极离子镀（HCD）、射频离子镀（RFIP）、直流放电二极 型（DCIP）、多阴极型、活性反应蒸发镀（ARE）、增强型ARE、低压等离子体离子镀（LFPD）、电场 蒸发离子镀、感应加热离子镀、簇团离子束镀等。 注：离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作 用的同时，把蒸发物或其反应物沉积在基片上。

📝 Foreword / 前言 ai_extracted

本标准由全国真空技术标准化技术委员会提出并归口。 本标准起草单位：沈阳真空技术研究所。 本标准主要起草人：金 石、李春影、李玉英。 JB/T 8946－1999

📚 References & Relations / 引用与关联