GB/T 46717-2025

Active

Semiconductor devices—Metallization stress void test

半导体器件 金属化空洞应力试验

Standard Type
GBT
ICS
31.080.01
CCS
L40
Status
现行
Issue Date
2025-10-31
Implementation
2026-05-01
Responsible Dept
工业和信息化部（电子）
Drafting Unit
N/A